什么是蒸发镀膜的三个基本过程？真空条件对它们各有何影响？通常是如何确定蒸发镀膜的工作真空度的？
蒸发镀膜的三个基本过程
蒸发过程：由凝聚相变为汽相、进入蒸发空间的相变过程
输运过程：由膜材表面飞行到基片表面
沉积过程：由汽相变为凝聚相 真空条件对它们各有何影响：
真空条件下易于蒸发（需要熔化的金属，熔、沸点降低；需要汽化的金属，易于脱离表面形成蒸汽；
真空条件下易于空间输运（膜材粒子散失少）；
真空条件下易于膜的生长（残余气体影响小）
真空度的计算：(按输运条件计算)
膜材粒子在残余气体中的平均自由程：严格计算，按粒子在残余气体中的平均自由程公式
简化计算，按常温空气分子的平均自由程公式 p—Pa λ—cm 0.665P
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