直流磁控溅射（DC）和射频磁控溅射（RF）

直流磁控溅射（DC）和射频磁控溅射（RF）

直流运用直流电源，射频运用交流电源（射频属于交流范畴，频率是13.56MHz。我们平常的生活用电频率为50Hz）。直流磁控溅射一般用于导电型（如金属）靶材的溅射，射频一般用于非导电型（如陶瓷）靶材的溅射。

直流磁控溅射只能用导电的靶材，并不局限于金属。譬如，对于铝靶，它的表面极易形成不导电的氧化膜层，造成靶表面电荷积累（靶中毒），严重时直流溅射无法进行。这时候，就需要射频电源。简单的说，用射频电源的时候，有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷，不会发生靶中毒。

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