常见的十种表面处理方法
表面处理是在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。 下面介绍一些常见的表面处理方法： 一．抛光 抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛 […]
常见问题
镀膜中常见的几种离子源
离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。 阳极层离子源，与霍尔 […]
真空蒸镀工艺
(l)基片表面的清洁 真空室内壁、基片架等表面的油污、锈迹、尘埃等在真空中极易蒸发，直接影响膜层的纯度和结合力，镀前必须清洁干净。 (2)镀膜前准备 1 镀膜室抽真空到10-3-10-2 Pa，对基片和镀料进行预处理。 ①加热基片，其目的是去除水分和增强膜基结合力。在高真空下加热基片，除进一步干燥基 […]
PVD镀膜的基本方式、材料种类及其竞争格局
PVD（Physical Vapor Deposition）技术是制备薄膜材料的主要技术之一，在真空条件下采用物理方法，将某种材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有增透、反射、保护导电、导磁、绝缘、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰等特殊功能的薄 […]
影响磁控靶点火电压的几个因素
本文主要分析影响磁控靶点火电压的因素：气体压力、电源以及靶材。 1.关于巴-刑曲线 在工作气体种类、成分、气压和阴极材料已确定及其它条件不变的条件下，阴-阳两极间的气体放电点火电压的高低可由巴-刑定律来说明，气体点燃电压Uz不仅和气压P、极间距d有关，而且和P与d的乘积有关(即Uz是P×d乘积的 […]
真空镀膜和光学镀膜有什么区别
一、概念的区别 1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。 2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反 […]
溅射之前准备工作如何做？
保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。 为保持镀膜的成分特性，溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。 暗区屏蔽罩，腔体壁及邻近表面也需要保持洁净 […]
靶材的制作方法、分类及应用
目前靶材的制备主要有铸造法和粉末冶金法。 铸造法：将一定成分配比的合金原料熔炼，再将合金溶液浇注于模具中，形成铸锭，最后经机械加工制成靶材，铸造法在真空中熔炼、铸造。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等，其优点是靶材杂质含量（特别是气体杂质含量）低，密度高，可大型化；缺点是 […]
镀膜玻璃常见质量问题
一、划伤或擦伤 定义和说明：镀膜玻璃表面和其它较硬的物质相对滑动或磨擦造成的线状或带状的伤痕为划伤或擦伤，主要表现为划伤或擦伤部位的玻璃透光率增高，或膜面脱落透亮。其形态多为不规则的弧形细条状或带状。 产生原因：划伤或擦伤往往是在施工安装使用中产生的，主要有： 1、生产方面：由于设备或后清 […]
什么是溅射靶材？
什么是溅射靶材？ 磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材 溅射是制备薄膜材料 的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高 […]
磁控溅射镀膜的历史
磁控溅射技术作为一种十分有效的薄膜沉积方法,被普遍和成功地应用于许多方面，特别是在微电子、光学薄膜和材料表面处理领域中,用于薄膜沉积和表面覆盖层 制备。1852年Grove首次描述溅射这种物理现象,20世纪40年代溅射技术作为一种沉积镀膜方法开始得到应用和发展。60年代后随着半导体工业的迅 速崛起, […]
镀钛薄膜的用途、工艺和成色
镀钛薄膜的用途、工艺和成色 一、镀钛薄膜的用途 镀钛一般用于提高物件表面耐磨性,比如,高速加工中心用的丝锥、钻头,都可以镀钛,以提高刀具的耐磨性,还有活塞环表面处理也有镀钛,同样是为了提高耐磨性。另外还有装饰性镀钛,不如街头上几块钱就能买到的类似黄金戒指,一般都是镀钛处理里的.主要是颜色金黄，好看、 […]
贵金属靶材是什么？有哪些？
贵金属靶材是什么？有哪些？ 采用精炼、熔化锻造、压延加工或粉未冶金工艺制造的半导体器件、记录媒体显示器件等的配线和薄膜的贵金属及其合金的溅射靶材。Au、Pt、Pd、Ag靶材用于集成电路和大规模集成电路，CoCrPt、CoPt和CoPd等合金靶材用于磁记录。 轻贵金属 银、钌、铑、钯的统称。密度在10 […]
靶材应用领域有哪些？
溅射靶材分类？ 溅射靶材整个产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节，而这其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。 溅射靶材按化学成分可分为： （1） 金属靶材（纯金属铝、钛、铜、钽等） （2） 合金靶材（镍铬合金、镍钴合金等） （3） 陶瓷化合物靶材（氧化物 […]
溅射靶材使用指南
溅射靶材使用指南 一、溅射准备 保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物，直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。 1、为保持镀膜的成分 […]
常见导致镀铬工艺的原因分析
一、镀层粗糙有颗粒 1. 电流太大；2. 阴极保护不当或末装；3. 阴阳极太近；4. 表面前处理不好；5. 镀液有浮悬杂质；6. 硫酸太少。 二、镀层脱落 1. 前处理不良；2. 中途断电；3. 中途加冷水；4. 预热不够。 三、 局部无镀层 1. 电流太小；2. 镀件互相遮盖；3. 装挂 […]
金粒是什么？金粒价格怎么算
金粒是什么？金粒价格怎么算？ 金粒，又称金颗粒，金膜料，金蒸镀颗粒，高纯金颗粒， 金豆。 金粒是用于蒸发镀膜的一种贵金属，具有纯度高，尺寸小，规则颗粒的特点 。 金颗粒的价格是以上海黄金交易所为基准的，在此基础上加收一定的提纯、熔炼、拉丝、打段等加工费用，是市场比较透明的价格规则。 金粒够买注意事项 […]
靶材厂家为您分析溅射不起辉的常见原因
磁控溅射金属靶时，无法起辉的原因有很多，常见主要原原因有： 1. 靶材安装准确否? 2. 靶材表面是否干净————金属靶表面氧化或有不清洁物质，打磨清理干净后即可 3. 起辉电源是否正常————检查靶电源 […]
磁性材料如何选择靶材厚度？
磁性材料主要包含铁钴镍锰4种，主要应用于高温超导材料和稀土发光材料方面。 铂、铁、钴、镍等的合金，铱锰、铁铂、铂镍等也是做磁性功能薄膜和磁性功能材料、磁记录等行业的必要材料。磁性材料像铁、钴、镍、锰等靶，一般建议做薄些，1-2mm，厚度不超过4mm，否则不容易起辉。 原理：铁磁性靶材会对磁控靶的溅射 […]
磁控放电与普通直流放电的差别是什么？
磁控放电与普通直流放电的差别是什么？ 1、维持放电的气体压力更低, 有利于输运过程; 2、放电的着火电压更低,不符合帕邢定律; 3、伏安特性与异常辉光放电相似（电流与电压对应有关、可调）。但放电电压显著下降, 更安全; 4、放电集中于磁场较强之处; 电场、磁场与气压的合理匹配，是关键 。 如有疑问 […]
PVD工艺有哪几种离散方法？
PVD工艺中的离散过程，是将固体原材料转化为可以迁移的气相成分的步骤，常用方法有蒸发和溅射两种方法。 对此二过程的分析：质量守恒及质量迁移；能量守恒及能量迁移 蒸发过程分析 原料固相——液相——气相少数直接升华，固相——气相 如铬 原料参与相变的量：首先全部液化，然后部分汽化——感应坩埚 或者：只有 […]
影响薄膜附着强度的因素有哪些？提高薄膜附着强度的方法有哪些？
影响因素： 基片材料、温度及表面状态对薄膜附着强度的影响较大。 采用不同的沉积方法对同样的薄膜-基片组合可以得到完全不同的附着强度。 沉积气氛、沉积速度及沉积粒子入射方向等对薄膜附着强度都有影响。 提高薄膜附着强度的方法： 基片的镀前处理：去掉粉尘、油渍、氧化膜、吸附气体； 成膜时基片加热：利于膜结 […]
浅析真空镀膜
1、真空蒸发镀膜法 真空蒸发法的原理是：在真空条件下，用蒸发源加热蒸发材料，使之蒸发或升华进入气相，气相粒子流直接射向基片上沉积或结晶形成固态薄膜；由于环境是真空，因此，无论是金属还是非金属，在这种情况下蒸发要比常压下容易得多。真空蒸发镀膜是发展较早的镀膜技术，其特点是：设备相对简单，沉积速率快，膜 […]
电子束蒸发与磁控溅射镀膜的性能分析研究
随着科学技术的不断发展，半导体器件的种类不断增多。原始点接触晶体管、合金晶体管、合金扩散晶体管、台面晶体管、硅平面晶体管、TTL集成电路和N沟硅栅平面MOS集成电路等，其制造工艺及工艺之间的各道工序也有所差别。在硅平面晶体管工艺过程中，电较材料的制备技术是一项关键工艺，典型的制备技术主要有两类：一类 […]
靶材用在什么设备上
做金属的靶材，需要真空熔炼炉，或者真空烧结炉或氢气气氛烧结炉进行制坯；然后可能需要锻锤和轧机进行压力成形加工；接着需要真空退火炉进行靶材热处理；然后需要超声无损检测设备进行检测；需要扫描电镜、ICP、激光粒度仪、费氏粒度仪、金相显微镜及其制样设备等进行化学成份分析、金相分析、粉末粒度分析甚至织构分析 […]
什么设备可以用来绑定靶材（绑定靶材的设备）
铟焊绑定设备 陶瓷靶材要先金属化，然后用铟焊料将铜背靶和陶瓷靶材进行焊接 绑定的靶材可以提高靶材的使用率，利用率等 防止陶瓷靶材的碎裂，提高导电导热性能 绑定的一些贵金属靶材，一定程度上可以节省生产成本等 如有疑问 请联系成都极星等离子科技有限公司 凡注明来源本网的所有作品，均为本网合法拥有版权或有 […]
科技部：国家重点支持的新材料高新技术领域
根据科技部网站公布的消息，国家重点支持的高新技术领域： 一、电子信息 二、生物与新医药 三、航空航天 四、新材料 五、高技术服务 六、新能源与节能 七、资源与环境 八、先进制造与自动化 新材料高新技术领域包含如下： （一）金属材料 1. 精品钢材制备技术 提高资源能源利用效率、促进减排的可循环钢铁流 […]
了解高纯溅射靶材在行业中的应用吗？
溅射(溅射)工艺是VLSI制造过程中反复使用的物理气相沉积(PVD)技术之一。它是制备电子薄膜材料的主要技术之一。它利用离子源产生的离子加速高真实空气中的聚集并形成高速离子束。固体表面的轰击，离子与固体表面原子之间的动能交换，使得固体表面的原子离开固体并沉积在衬底表面上。被轰击的固体是溅射的薄膜沉积 […]
探讨五种溅射镀膜技术的优势与劣势
一、非均衡磁控溅射 假设经过磁控溅射阴极的内、外两个磁极端面的磁通量不相等,则爲非均衡磁控溅射阴极。普通磁控溅射阴极的磁场汇集在靶面临近,而非均衡磁控溅射阴极的磁场很多向靶外发散普通磁控阴极磁场将等商子体紧密地约束在靶面跗近,而基片临近等离子体很弱,基片不会遭到离子和电子较强的炮击。非均衡磁控阴极磁 […]
如何提高溅射效率？
磁控溅射通常的溅射方法，溅射效率不高。 为了提高溅射效率，首先需要增加气体的离化效率。为了说明这一点，先讨论一下溅射过程。当经过加速的入射离子轰击靶材(阴极)表面时，会引起电子发射，在阴极表面产生的这些电子，开始向阳极加速后进人负辉光区，并与中性的气体原子碰撞，产生自持的辉光放电所需的离子。这些所谓 […]
一分钟让您读懂溅射靶材的有关知识
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一。它利用离子源产生的离子加速离子在真空中的积累，形成高速离子束，轰击固体表面，并在离子与固体表面的表面之间交换能量，使固体表面的原子与固体和沉积在基座表面上并被轰击。固体是溅射薄膜的原材料，被称为溅射靶材。 溅射靶材的分类 1、根据成份 金属靶材 (镍靶、Ni、钛靶、 […]
磁控溅射与离子溅射在溅射压力传感器制造中的优劣
射频磁控溅射 射频磁控溅射是一种溅射镀膜法，它对阴极溅射中电子使基片温度上升过快的缺点加以改良，在被溅射的靶极（阳极）与阴极之间加一个正交磁场和电场，电场和磁场方向相互垂直。当镀膜室真空抽到设定值时，充入适量的氩气，在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁)之间施加几百伏电压，便在镀膜室内产生磁控型 […]
关于溅射
溅射 一、 溅射的基本内容： 1、定义：所谓溅射，就是这充满腔室的工艺气体在高电压的作用下，形成气体等离子体（辉光放电），其中的阳离子在电场力作用下高速向靶材冲击，阳离子和靶材进行能量交换，使靶材原子获得足够的能量从靶材表面逸出（其中逸出的还可能包含靶材离子）。这一整个的动力学过程，就叫做溅射。 入 […]
真空基本知识
一、 真空的基本知识 1、 真空的概念： “真空”是指在给定空间内低于一个大气压力的气体状态，也就是该空间内气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。不同的真空状态，就意味着该空间具有不同的分子密度。在标准状态（STP：即0℃，101325Pa，也就是1标准大气压，760Torr）下，气体的分子密 […]
真空镀膜定义及磁控溅射靶材种类
真空镀膜 在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。 蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方 […]
脉冲磁控溅射的工作原理和工作方式
脉冲磁控溅射是采用矩形波电压的脉冲电源代替传统直流电源进行磁控溅射沉积。脉冲磁控溅射技术可以有效的抑制电弧产生进而消除由此产生的薄膜缺陷，同时可以提高溅射沉积速率，降低沉积温度等一系列显著优点。 脉冲可分为双向脉冲和单向脉冲（如图5所示）。双向脉冲在一个周期内存在正电压和负电压两个阶段，在负电压段， […]
U.V上光工艺常见问题及解决
01、“麻点”现象 原因：a.油墨发生了晶化现象 b.表面张力值大，对墨层润湿作用不好。 解决：a.在UV油中加入5%的乳酸，破坏晶化膜或除去油质或打毛处理。b.降低表面张力值，加入表面活性剂或表面张力值较低的溶剂。 02、条痕和起皱现象 原因：a.UV油太稠，涂 […]
等离子技术概述
在微电子器件的制造中，等离子技术已经成为重要的生产工具。在此期间，等离子技术在许多其他行业领域也广泛应用，包括汽车、医疗设备、纺织品和航空航天等。 等离子处理用于改变各种材料的表面特性，使其更容易粘合和涂漆。通过处理零 […]
PVD常见涂层颜色
PVD常见涂层颜色 金色 TiN,TiN+Au,TiN+Au,ZrN,ZrN+Au,HfN等。 黑色 TiCN,Ti(C,O),TiAlN,TiAl,SiN,GrAlC,SUSC,DLC等 蓝色 Ti,Gr,Zr,Al,In(干涉)，TiAl,TiAlN,SUS,SUSN等 玫瑰 TiC […]
阴极电弧工作稳定性
电弧稳定性的影响因素： 磁场、阴极表面的清洁程度、靶面的几何尺寸、几何形状及表面状态、阴极靶面的表面温度、电弧电流的大小、真空室内真空度及各组分气体分压种类等。 磁场对电弧稳定性的影响： 在无外加磁场的情况下, 阴极电弧为堆团状。 产生这种堆团状弧斑的原因有二点: 其一是电弧本身产生的自 […]
磁场与靶电压
随着磁场的增强，靶电压不断升高。 1，磁场增强，使得等离子体中的粒子碰撞加剧，电子在碰撞中损失电子流向阳极变得困难，电源负载增加，电压升高。 2，磁场增强，等离子体运动受到的束缚增强，等效电阻增加，为保证工作电流，电压升高。 如有疑问 请联系成都极星等离子科技有限公司 凡注明来源本网的所有作品，均为 […]
阴极电弧中大颗粒的规避
1，通过有效的冷却或再阴极表面增加磁场强度，使阴极斑快速运动来降低阴极斑的温度，从而降低大颗粒的产生率。 (1)小圆弧 增加靶的直径，提高冷却效率 (2)矩形平面弧 增大阴极面积，加长弧斑运动轨迹，提高冷却效率 (3)柱状弧 电弧工作的同时，旋转靶管，使得靶材充分冷却 2，用聚焦磁场对阴极产生的等离 […]
沉积前清洗的几种形式
1，辉光清洗(溅射镀膜) 工件上加载负偏压，利用辉光放电产生的氩离子轰击清洗基片。 2，电子束辅助清洗(热阴极离子镀) 利用外加电子束轰击辅助阳极，在此过程中等离子体碰撞，产生大量氩离子。轰击基片溅射清洗 3，金属离子轰击清洗(电弧离子镀) 利用电弧产生的金属离子轰击工件，对基片进行离子轰击溅射清洗 […]
渗碳后的几种热处理方法
渗碳只能改变零件表面的化学成分，要使零件获得外硬内韧的性能，渗碳热处理后还必须进行淬火加低温回火，来改善钢的强韧性和稳定零件的尺寸。根据工件的成分、形状和力学性能等，渗碳后常采用以下几种热处理方法。 1）直接淬火+低温回火 将零件自热处理炉中取出直接淬火，然后回火以获得表面所需的硬度。直接淬火的条件 […]
镀铬、镀镍和镀锌到底有什么区别？
01-镀锌 特点：成本低，防腐蚀一般，颜色为银白色。 白锌 定义：通过电解或化学方法在金属或某些非金属上镀上一层镍的方法，称为镀镍。 03-镀铬 特点：镀铬有两种，第一种是起装饰作用，外表光亮、耐磨擦性能较好，防锈能力不如镀锌，优于氧化；第二种是增加金属零件的硬度、耐磨性等，这是零件的功能性。 1: […]
电镀、电铸、电泳、溅镀及阳极处理的区别
1、电镀 电镀是应用电解原理在某些金属表面镀上一薄层其他金属或合金的过程。 电镀的原理与电解精炼铜的原理是一致的。电镀时，一般都是用含有镀层金属离子的电解质配成电镀液；把待镀金属制品浸入电镀液中与直流电源的负极相连，作为阴极；用镀层金属作为阳极 […]
8种常见金属材料及表面处理工艺
八种常见金属材料 1铸铁——流动性 下水道盖子作为我们日常生活环境中不起眼的一部分，很少会有人留意它们。铸铁之所以会有如此大量而广泛的用途，主要是因为其出色的流动性，以及它易于浇注成各种复杂形态的特点。铸铁实际上是由多种元素组合的混合物的名称，它们包括碳、硅和铁。其中碳的含量越高，在浇注过程中其流动 […]
PVD技术的发展及工作原理
PVD技术四个工艺步骤 (1)清洗工件：接通直流电源，氩气进行辉光放电为氩离子，氩离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；(2)镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。 (3)镀料离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后，高速冲向工件； (4)镀料原子、分子或离子在 […]
什么设备可以用来绑定靶材（绑定靶材的设备）
铟焊绑定设备 陶瓷靶材要先金属化，然后用铟焊料将铜背靶和陶瓷靶材进行焊接 绑定的靶材可以提高靶材的使用率，利用率等 防止陶瓷靶材的碎裂，提高导电导热性能 绑定的一些贵金属靶材，一定程度上可以节省生产成本等 如有疑问 请联系成都极星等离子科技有限公司 凡注明来源本网的所有作品，均为本网合法拥有版权或有 […]
PVD 离子镀装饰膜
PVD 装饰镀膜技术的发展突飞猛进﹐离子镀装饰膜己广泛应用于表壳、表带、手机壳、眼镜框、高尔夫球具、饰物、建筑五金、日用五金等产品。离子镀装饰膜赋予产品表面金属质感和丰富的色彩，并改善耐磨、耐腐蚀性，延长使用寿命。随着离子镀装饰膜市场日益扩大，膜层性能要求越来越高，制造工艺出现了许多新问题、新挑战。 […]