什么是溅射靶材？
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材
溅射是制备薄膜材料 的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体 集成电路 、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。制程反应室内部的高温 与高真空环境，可使这些金属原子结成晶粒，再透过微影图案化与蚀刻，最终一层层金属导线，而芯片 的数据传输全靠这些金属导线。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏 、激光 存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
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